アサヒ・テクノソリューションズ株式会社
 
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製品情報
製品情報
 
製品情報 AMA125手動マスクアライナ
    装置概要
本装置はマスクのパタンを紫外線露光により基板上のレジストに
焼きつける装置です。

アライメント
左右一対のCCDカメラ顕微鏡により基板のアライメントが可能です。
アライメントは基板上のレジストがマスクに接触しない安全距離(任意)例えば50um程度で行います。

露光
アライメント後の露光は解像度を上げるためアライメントギャップより例えば20um等に基板をマスクに近づけて露光します(任意)。

解像度
プロキシミティー露光の解像度は一般的に以下の近似式で表されます(ご参考)。

R=√(gap x λ)
R: 解像度、gap:プロキシミティーギャップ、λ:露光波長(0.4um)
製品情報 小型ステッパ 応用露光機ASS(サーマプレシジョン社製)
    研究開発から量産まで対応する小型ステッパ
特徴    
・サブユニットの組み合わせでフレキシブルな構成が可能
・3種類のNA可変レンズ(交換可能:A,B,C)で
幅広いアプリケーションに対応
各レンズ解像度(μm) 
A:(0.5〜1.0),B:(1.0〜2.5),C:(2.5〜4.0)

基本仕様
重ね合わせ精度   :≦0.5um(3σ)
基板サイズ     :〜□300mm
照明光源   :〜2kW高圧水銀ランプ
サイズ(WxDxH):1.15x2.30x2.30m
重量       :1.5ton
製品情報 大気圧プラズマ基板表面クリーナー ONTOS7
    基板表面のデバイスに優しいダウンフロープラズマ。
基板サイズ200mm迄対応。
クリーニング後に表面パッシベーションが可能。



カタログダウンロードは以下のiPROSサイトにて。
http://premium.ipros.jp/asahi-techsl/
製品情報
   
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製品情報 AMA125手動マスクアライナ 製品情報 小型ステッパ 応用露光機ASS(サーマプレシジョン社製)
 
装置概要
本装置はマスクのパタンを紫外線露光により基板上のレジストに
焼きつける装置です。

アライメント
左右一対のCCDカメラ顕微鏡により基板のアライメントが可能です。
アライメントは基板上のレジストがマスクに接触しない安全距離(任意)例えば50um程度で行います。

露光
アライメント後の露光は解像度を上げるためアライメントギャップより例えば20um等に基板をマスクに近づけて露光します(任意)。

解像度
プロキシミティー露光の解像度は一般的に以下の近似式で表されます(ご参考)。

R=√(gap x λ)
R: 解像度、gap:プロキシミティーギャップ、λ:露光波長(0.4um)
研究開発から量産まで対応する小型ステッパ
特徴    
・サブユニットの組み合わせでフレキシブルな構成が可能
・3種類のNA可変レンズ(交換可能:A,B,C)で
幅広いアプリケーションに対応
各レンズ解像度(μm) 
A:(0.5〜1.0),B:(1.0〜2.5),C:(2.5〜4.0)

基本仕様
重ね合わせ精度   :≦0.5um(3σ)
基板サイズ     :〜□300mm
照明光源   :〜2kW高圧水銀ランプ
サイズ(WxDxH):1.15x2.30x2.30m
重量       :1.5ton
製品情報 大気圧プラズマ基板表面クリーナー ONTOS7 製品情報
 
基板表面のデバイスに優しいダウンフロープラズマ。
基板サイズ200mm迄対応。
クリーニング後に表面パッシベーションが可能。



カタログダウンロードは以下のiPROSサイトにて。
http://premium.ipros.jp/asahi-techsl/
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